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硅烷的成膜反应
其中R为烷基取代基，Me为金属基材
成膜后的金属硅烷化膜层主要由两部分构成：其一即在金属表面，硅烷处理剂通过成膜反应形成金属硅烷复合膜，二是通过缩合反应形成大量低聚硅氧烷，从而形成完整硅烷膜，金属表面成膜状态微观模型可描述为图1所示结构。
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